[实用新型]内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构有效
申请号: | 201920881152.5 | 申请日: | 2019-06-12 |
公开(公告)号: | CN210237767U | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 李峰;薛道荣;韩成明;李强;刘子毓 | 申请(专利权)人: | 河北道荣新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 李林 |
地址: | 054000 河北省邢台*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型提供一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室,所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材,所述固定套管的两端设有真空密封阀,并且设有贯通内外的抽气口与布气管;所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接,相邻的靶材用绝缘条相互隔绝,数个靶材均连接有外部电源;所述磁铁呈片状,在镀膜室的轴向上依次层叠,与各个靶材分别对应布置。本实用新型可根据需镀膜层的不同要求,设计不同长度的靶材及其组合,然后根据靶材的组成情况,装配于相应长度的固定套管内,而磁铁也可根据靶材长度层叠至相应长度位置,提高内腔式镀膜设备的适应性。 | ||
搜索关键词: | 内腔式 磁控溅射 镀膜 装配式 结构 | ||
【主权项】:
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