[实用新型]一种用于制备纳米材料的气相反应炉有效
| 申请号： | 201920903435.5 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN210237770U | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 阮诗伦;李朝阳;张留新;樊利芳;孙秀洁;王新宇 | 申请（专利权）人： | 郑州大工高新科技有限公司;大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/26;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙) 41130 | 代理人： | 边鹏 |
| 地址： | 450000 河南省郑州市自贸试验区郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种用于制备纳米材料的气相反应炉，包括：炉体，炉体安装在炉体支架上，其特征在于：还包括供气系统、升降系统，供气系统设置在炉体的外侧并通过气管与炉体连通，炉体内设有上部导热板、导流均热板、炉腔、两个混气腔，炉体下部设有开口，上部导热板和两个导流均热板包裹在炉腔外部，混气腔位于导流均热板的外侧；在炉体下方还设有升降系统，升降系统上部设有升降台、炉门、下部导热板，炉门与炉体下部开口采用气密性结构密封。其有益效果是：本实用新型解决了小型CVD真空管式炉制备纳米材料面积小，生长不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 纳米 材料 相反 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
