[实用新型]一种用于半导体行业的废气处理系统有效

专利信息
申请号: 201920911012.8 申请日: 2019-06-17
公开(公告)号: CN210186776U 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 张伟明;章强兵 申请(专利权)人: 上海盛剑环境系统科技股份有限公司
主分类号: B01D53/06 分类号: B01D53/06;F23G7/07;B01D46/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 胡素莉
地址: 201821 上海市嘉定区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种用于半导体行业的废气处理系统,包括用于过滤废气的沸石转轮以及用于催化燃烧有机物的催化直燃炉,沸石转轮包括吸附区与脱附区,吸附区连接有用于将废气输送至吸附区内进行过滤并将过滤后的废气输送至烟囱排放的第一风机,脱附区连接有用于向脱附区内输入气流并将脱附区内的废气输送至催化直燃炉的第二风机,脱附区的入口连接有用于加热输送至脱附区的气流的加热装置,催化直燃炉的出口用于连通烟囱以排放燃烧后的气体。采用了吸附加催化燃烧法对废气进行处理,催化燃烧可在较低的温度下实现VOCs完全氧化,因此在提高废气处理效果的同时,降低了废气的处理的能耗,且具体设备简单、能耗低、安全性能高。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 行业 废气 处理 系统
【主权项】:
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