[实用新型]一种适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置有效
申请号: | 201920912930.2 | 申请日: | 2019-06-18 |
公开(公告)号: | CN210014790U | 公开(公告)日: | 2020-02-04 |
发明(设计)人: | 许明洋;石静 | 申请(专利权)人: | 重庆四联测控技术有限公司 |
主分类号: | G01D5/42 | 分类号: | G01D5/42 |
代理公司: | 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 尹丽云 |
地址: | 401121 重庆市渝北*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本实用新型提出一种适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,包括有变送器和充灌结构,充灌结构位于变送器的下端,且与变送器固定连接;充灌结构内部设有一用于容置液态的镓铟锡合金介质的腔体;充灌结构还开设有一用于充灌液态的镓铟锡合金介质的介质充灌孔;充灌结构的下端还固定连接有吸附法兰,在充灌结构与吸附法兰之间设置有一隔离膜片;吸附法兰还开设有一真空抽取口,且隔离膜片与真空抽取口接触。本实用新型能够将液态的镓铟锡合金介质充灌至变送器中,同时还可以在液态的镓铟锡合金介质充灌完成后,通过吸附法兰保护隔离膜片不被损坏。 | ||
搜索关键词: | 镓铟锡合金 变送器 吸附法 隔离膜片 本实用新型 真空抽取口 下端 充灌装置 灌孔 腔体 容置 | ||
【主权项】:
1.一种适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,包括有变送器和充灌结构,所述充灌结构位于所述变送器的下端,且与所述变送器固定连接;/n所述充灌结构内部设有一用于容置液态的镓铟锡合金介质的腔体;所述充灌结构还开设有一用于充灌液态的镓铟锡合金介质的介质充灌孔;/n所述充灌结构的下端还固定连接有吸附法兰,在所述充灌结构与所述吸附法兰之间设置有一隔离膜片;/n所述吸附法兰还开设有一真空抽取口,且所述隔离膜片与所述真空抽取口接触。/n
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