[实用新型]一种新型锗基片有效
| 申请号： | 201920968277.1 | 申请日： | 2019-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN209992700U | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 王兴明 | 申请（专利权）人： | 王兴明 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 341000 江西省赣*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型锗基片，包括有方形锗基片，所述方形锗基片上表面、下表面与侧面之间分别设有倒棱边，所述方形锗基片四个角为倒角，有效地防止封装时相邻锗基片之间发生碰撞，同时方形锗基片外表均进行抛光，实现外表面的平面度优于633纳米、平行度优于2秒，提高方形锗基片与光学薄膜之间的附着力。 | ||
| 搜索关键词： | 锗基片 附着力 本实用新型 光学薄膜 平面度 平行度 上表面 下表面 有效地 抛光 倒角 倒棱 封装 侧面 | ||
【主权项】：
1.一种新型锗基片，其特征在于：包括有方形锗基片(1)，所述方形锗基片(1)上表面、下表面与侧面之间分别设有倒棱边(2)，所述方形锗基片(1)四个角为倒角(3)，所述方形锗基片(1)外表面的平面度优于633纳米、平行度优于2秒。/n
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