[实用新型]用于化学气相沉积反应的供气系统有效
申请号: | 201920971911.7 | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN210458362U | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 张少雷;屈丰超;王世举;杨文涛 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 董文倩 |
地址: | 102209 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请提供了一种用于化学气相沉积反应的供气系统,该供气系统包括:液态源储存设备,用于存储液态源;汽化设备,与液态源储存设备可切断地连通,汽化设备用于对液态源汽化;气体存储设备,与汽化设备可切断地连通,气体存储设备用于储存汽化设备汽化形成的气体;化学气相沉积反应设备,与气体存储设备连通。该系统将汽化形成的气体先储存在气体存储设备中,这样当气体存储设备中的气体达到预定的压力后,再向化学气相沉积反应设备供气,避免了供气过程受到汽化过程的影响,从而提高了气体供应的稳定性,解决了现有技术中的供气方式供气不稳定的问题。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 反应 供气 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东泰高科装备科技有限公司,未经东泰高科装备科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920971911.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的