[实用新型]运动装置有效
| 申请号： | 201921088503.3 | 申请日： | 2019-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN210073772U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 吴火亮 | 申请（专利权）人： | 上海隐冠半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;G01B21/08 |
| 代理公司： | 31342 上海上谷知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蔡继清;陈婷婷 |
| 地址： | 200135 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种运动装置，包括：托盘；旋转台，位于所述托盘下方，且其上表面设有环形上部凹腔，下表面设有下部凹腔，其中上部凹腔与下部凹腔在垂直于旋转台的上表面的投影方向上的投影相互错开；旋转电机，容纳在环形上部凹腔内，并包括旋转电机动子和旋转电机定子，旋转电机定子相对于旋转台固定，旋转电机动子相对于托盘固定；垂直移动装置，位于下部凹腔内并构造成能够驱动旋转台垂直移动；浮动重力补偿装置，位于下部凹腔内并构造成能够对旋转台进行重力补偿。与现有技术相比，本实用新型的运动装置垂向尺寸显著减小，且通过浮动重力补偿装置的应用，显著增加运动装置的垂向运动精度。 | ||
| 搜索关键词： | 下部凹腔 旋转台 托盘 上部凹腔 运动装置 旋转电机定子 旋转电机动子 重力补偿装置 本实用新型 上表面 投影 浮动 垂直移动装置 垂向运动 驱动旋转 旋转电机 重力补偿 下表面 错开 垂向 减小 垂直 容纳 应用 | ||
【主权项】：
1.一种运动装置，包括：/n托盘；/n旋转台，所述旋转台位于所述托盘下方，所述旋转台的上表面设有环形上部凹腔，所述旋转台的下表面设有下部凹腔，其中所述上部凹腔与所述下部凹腔在垂直于所述旋转台的上表面的投影方向上的投影相互错开；/n旋转电机，所述旋转电机容纳在所述环形上部凹腔内，所述旋转电机包括旋转电机动子和旋转电机定子，所述旋转电机定子相对于所述旋转台固定，所述旋转电机动子相对于所述托盘固定；/n垂直移动装置，所述垂直移动装置位于所述下部凹腔内并构造成能够驱动所述旋转台垂直移动；以及/n浮动重力补偿装置，所述浮动重力补偿装置位于所述下部凹腔内并构造成能够对所述旋转台进行重力补偿。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海隐冠半导体技术有限公司，未经上海隐冠半导体技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201921088503.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
