[实用新型]水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备

摘要

一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，包括：沉积反应槽、移动机构及多个载具；沉积反应槽内在两个长槽壁分别安装多个喷流模块；移动机构安装于沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，链条组设有多个承接件，马达经由传动组件带动两个链条组同步移动；载具包括横杆及两承架，两承架固定于所述横杆且具有开口，载具以斜置形态由横杆两端架设于两个承接件内，斜置形态指载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度；借此本实用新型采用直立斜置形态的电路板移动方式，配合反应液喷流至电路板表面和孔内壁，有效率地将金属沉积在电路板表面和孔内壁且避免气泡残留其中，另可扩大应用在各种化学沉积作业。