[实用新型]一种光伏硅片超声清洗设备有效
申请号: | 201921165562.6 | 申请日: | 2019-07-24 |
公开(公告)号: | CN210006701U | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 冯艳红 | 申请(专利权)人: | 天津创昱达光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18;B08B3/12;B08B3/04;B08B3/14 |
代理公司: | 11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 宋平 |
地址: | 301803 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本申请公开了一种光伏硅片超声清洗设备,包括排水槽;排水槽内设置有超声清洗槽;排水槽的底部设置有排污电机;排污电机的转轴上焊接连接有搅拌轴;搅拌轴贯通伸入超声清洗槽内设置;搅拌轴的端部设置有排污扇叶;超声清洗槽连通的设置有进水管;进水管连通至清洗液储箱;进水管上设置有供水泵及进水阀门;排水槽设置有排水管;排污扇叶的上方固定设置有支撑网格;支撑网格的上方固定设置有架板;架板上均匀的开设有若干硅片通槽;超声清洗槽相对的两侧壁顶端对称的设置有溢流开口槽。本实用新型结构简单,清洗效果好,节约水资源。 | ||
搜索关键词: | 超声清洗槽 排水槽 搅拌轴 进水管 固定设置 排污电机 支撑网格 架板 扇叶 连通 排污 超声清洗设备 本实用新型 清洗液储箱 排水管 光伏硅片 焊接连接 进水阀门 清洗效果 供水泵 开口槽 两侧壁 硅片 伸入 通槽 溢流 转轴 对称 贯通 水资源 节约 申请 | ||
【主权项】:
1.一种光伏硅片超声清洗设备,其特征在于,包括排水槽;所述排水槽内固定设置有超声清洗槽;所述排水槽的底部设置有转轴竖直向上的排污电机;所述排污电机的转轴上焊接连接有竖直的搅拌轴;所述搅拌轴远离所述排污电机的一端,贯通所述排水槽及所述超声清洗槽伸入所述超声清洗槽内设置;所述搅拌轴伸入所述超声清洗槽内的端部固定设置有排污扇叶;/n所述排水槽的一侧设置有清洗液储箱;所述超声清洗槽的侧壁底端连通的设置有进水管;所述进水管远离所述超声清洗槽的一端贯通所述排水槽连通至所述清洗液储箱;所述进水管上设置有供水泵;所述进水管上位于所述供水泵与所述排水槽之间设置有进水阀门;所述排水槽的侧壁底端连通的设置有排水管;/n所述排污扇叶的上方固定设置有水平的支撑网格;所述支撑网格的上方固定设置有水平的架板;所述架板上均匀的开设有若干硅片通槽;所述超声清洗槽相对的两侧壁顶端对称的设置有溢流开口槽。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造