[实用新型]一种掩膜板清洗装置有效
申请号: | 201921168514.2 | 申请日: | 2019-07-23 |
公开(公告)号: | CN210090914U | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 孙荣兵 | 申请(专利权)人: | 昆山维信诺科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 康艳艳 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供的一种掩膜板清洗装置,包括:载台,适于承载掩膜板;吹气管道,用于对所述载台吹气;喷水管道,用于对放置在所述载台上的所述掩膜板喷水;感应器,设置在所述载台上;控制器,与所述感应器电连接,用于在所述感应器感应到所述掩膜板放置在所述载台上时,控制所述吹气管道停止吹气。当掩膜板放置在载台上时,控制器控制吹气管道停止吹气,能够避免喷水管道在对掩膜板喷水清洗时,水进入吹气管道,从而避免吹气管道在吹气干燥的过程中有水从吹气管道中吹出,因此能够避免掩膜板上有水渍残留。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 清洗 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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