[实用新型]一种新型激光掺杂选择性发射极图案

摘要

本实用新型涉及激光掺杂选择性发射极领域。一种新型激光掺杂选择性发射极图案，正面激光图栅线数量为106，其中相邻线距为1.4762mm，每根线为镂空虚线，其中实线部分长为0.6mm,虚线部分长为0.12mm，另外相邻两根图栅线的镂空虚线之间交错相间，相间距离为0.3mm。通过优化正面激光图案，改善制作碱抛选择性发射极时激光掺杂区容易被刻蚀的问题，保证碱抛选择性发射极的工艺稳定，效率提升0.2%。