[实用新型]一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置有效

专利信息
申请号: 201921279724.9 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN210900272U 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 程金花;郑永林;张洪江;王海燕;王一格 申请(专利权)人: 北京林业大学
主分类号: A01B79/02 分类号: A01B79/02;A01G17/00;A01G20/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 王学芝
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型属于土地治理技术领域,公开了一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置,地埂修建在坡地上,地埂上端开设有苗木种植区,苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱;地埂为土埂或石埂,土埂上部为土质地埂,下部为土质田坎,石埂上部为土质地埂,下部为干砌石质田坎。本实用新型提出的基于地埂和植物篱的优化构建模式可提高土地生产力50%以上,减少坡耕地土壤流失量50%以上,提高坡耕地降水利用率20%以上,减少面源污染量约30%,有效地改善了农业生态环境,而且还可带来改良土壤和固土保肥的生态功能。
搜索关键词: 一种 基于 地埂 植物 污染 装置
【主权项】:
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