[实用新型]一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统有效
| 申请号： | 201921293415.7 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN210573185U | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 涂刚峰 | 申请（专利权）人： | 广州嘉禾盛信息科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 陶志国 |
| 地址： | 510000 广东省广州市高*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统，包括箱体、光源装置及散热结构，箱体包括底面、侧面及发光面，侧面设于底面上，发光面设于侧面上，且发光面上设有多个开孔，多个开孔按照设定规则均匀排列；光源装置包括多个实时反馈的动态扫描式平行光源，该多个平行光源均设置在箱体内部；该多个平行光源与多个开孔的数量一致，并且每个平行光源对向于每个开孔；散热结构设置在箱体的侧面。其中，本申请的光源为采用实时反馈的动态扫描式平行光源，且该平行光源设有多个，由此，不但减少了单个光源的数量，减少了校正的时间，还可提高整体的转配效率；同时，配置了散热结构，使产品在工作中能快速散发热量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 动态 校准 扫描 uv 曝光 光源 系统 | ||
【主权项】：
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