[实用新型]反熔丝存储单元有效
申请号: | 201921312949.X | 申请日: | 2019-08-13 |
公开(公告)号: | CN211208446U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 冯鹏;李雄 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;H01L21/8246;G11C17/16 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型实施例涉及一种反熔丝存储单元,包括:衬底,所述衬底上具有选择栅极结构;第一掺杂区和第二掺杂区,所述第一掺杂区和所述第二掺杂区分别位于选择栅极结构相对两侧的所述衬底内,所述第一掺杂区和所述第二掺杂区的掺杂离子类型相同;位于所述第一掺杂区上的反熔丝栅介质层和位于所述反熔丝栅介质层上的反熔丝栅极;第三掺杂区,所述第三掺杂区位于所述第二掺杂区与所述选择栅极结构之间,所述第三掺杂区的与所述第二掺杂区的掺杂离子类型相同,且所述第三掺杂区的掺杂离子浓度小于所述第二掺杂区的掺杂离子浓度。本实用新型可以降低电场对选择栅介质层的损伤,从而提高反熔丝存储单元中选择晶体管的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 反熔丝 存储 单元 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921312949.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种帐篷布大理石纹发生装置
- 下一篇:一种辊体抛光设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的