[实用新型]一种MO源瓶支架装置有效
| 申请号： | 201921330901.1 | 申请日： | 2019-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN210560737U | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 施文贞 | 申请（专利权）人： | 福州中科光芯科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;C23C16/18 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 陆帅;蔡学俊 |
| 地址： | 350000 福建省福州市鼓楼*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种MO源瓶支架装置，包括支架框，支架框上设置有竖直截面形状为“L”字形的MO源瓶支撑座。该MO源瓶支架装置的结构简单，放置方便，采用奥氏体不锈钢结构，随MO源瓶浸泡水中，不需要取出，不易生锈，精致小巧，可放置于水浴槽中间，将新装的MO源瓶紧贴着MO源瓶支撑座的垂直面安装，即可保证MO源瓶垂直不易倾斜，大大改善了MO源瓶倾斜与偏离的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mo 支架 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
