[实用新型]一种芯片清洗装置有效
申请号: | 201921351826.7 | 申请日: | 2019-08-20 |
公开(公告)号: | CN211208394U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 原子健;李晓杰;常小明 | 申请(专利权)人: | 济源艾探电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人: | 卓邦荣 |
地址: | 459000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种芯片清洗装置,包括外箱,外箱内部中间固定有分隔板,分隔板将外箱体分割为上空腔和下空腔,上空腔上设有清洗组件,清洗组件包括清洗箱,清洗箱上沿清洗箱周壁上固定有多个超声波发生器,分隔板上固定有超声波换能器,清洗箱的中部设有置物板,出水口连接有第一管道且第一管道伸出上空腔,下空腔内设有过滤组件,过滤组件包括设置在外箱体上的过滤板,过滤板上方设有第二管道,第一管道的伸出端与第二管道的伸出端通过弯管相互连接,外箱体上固定有水泵,水泵的进水口通过管道与下空腔连通,水泵的出水口可通过管道将液体输送到清洗箱内。能够更高效的对芯片进行清洗,同时能够对清洗液进行重复使用,提高清洗液的使用效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 芯片 清洗 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于济源艾探电子科技有限公司,未经济源艾探电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921351826.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种等内径钛合金钻杆
- 下一篇:一种快速散热的工业电机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造