[实用新型]一种镀膜用磁控溅射靶组装结构有效
| 申请号： | 201921381969.2 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN210438829U | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 陆玲 | 申请（专利权）人： | 张家港市和瑞创先智能光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 李猛 |
| 地址： | 215623 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，包括：磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒，所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封，所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔，所述去离子水存储盒中设置有数根贯穿去离子水存储盒和固定座而延伸至真空室壁板外侧的水管，所述去离子水存储盒底部设置有与水管对应的第一通孔并焊接密封固定，所述水管上套设有位于真空室壁板和固定座之间的圆台密封套，所述水管的外端设置有T形螺母进行紧固。通过上述方式，本实用新型所述的镀膜用磁控溅射靶组装结构，避免去离子水存储盒漏水及真空室漏气问题，而且安装和拆卸比较便利。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 磁控溅射 组装 结构 | ||
【主权项】：
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