[实用新型]存储器有效

专利信息
申请号: 201921463016.0 申请日: 2019-09-04
公开(公告)号: CN210296374U 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 张钦福;林昭维;朱家仪;郑仁杰;吴仁国;赖惠先 申请(专利权)人: 福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242;H01L23/532;H01L23/528
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种存储器及其形成方法。本实用新型提供的存储器中,形成在字线沟槽中的介质材料层具有上层部和下层部,并且在沟槽隔离结构中和在有源区中,介质材料层的上层部的厚度均大于下层部的厚度。如此,即能够改善字线和有源区之间的漏电流现象,包括:降低了位于沟槽隔离结构中的字线和有源区之间的漏电流,以及能够在维持存储晶体管的性能的基础上,改善栅极感应漏电流(GIDL)现象。
搜索关键词: 存储器
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建省晋华集成电路有限公司,未经福建省晋华集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921463016.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top