[实用新型]一种溅射成膜装置有效
| 申请号： | 201921510677.4 | 申请日： | 2019-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN210420144U | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 余龙;张詠麟;马淑莹;裴蓓 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种溅射成膜装置，其特征在于：所述基板托盘公转转台与一设置在所述真空成膜室外部的公转马达驱动连接并在其驱动下旋转，所述基板托盘自转转台与一设置在所述真空成膜室内部的自转真空马达相驱动连接，所述自转真空马达通过真空导入电极与一设置在所述真空成膜室外部的导电滑环相连接，所述基板托盘自转转台在所述的所述自转真空马达的驱动下旋转。本实用新型的优点是：实现基板托盘公自转转速比例的调整，可显著提高基板沉积不同镀膜材料膜厚均匀性，可满足高精度低缺陷的薄膜的制备需要；减少采用传动齿轮组时其摩擦振动产生的粉尘，进而减少基板薄膜缺陷的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 装置 | ||
【主权项】：
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