[实用新型]一种制造HIT电池的非晶硅镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种制造HIT电池的非晶硅镀膜设备，包括依次设置的机械手上料台、本征非晶硅镀膜体系、水平移载台、N层非晶硅镀膜体系、翻转移载台、P层非晶硅镀膜体系及机械手下料台，以及分别用于本征非晶硅镀膜体系、N层非晶硅镀膜体系与P层非晶硅镀膜体系的载板，以及用于载板回传的载板回传循环系统一、载板回传循环系统二及载板回传循环系统三,载板通过链式输送带连续循环运行。该实用新型通过设备和工艺的整合连续动态镀膜，一次性完成4层HIT电池非晶硅膜的镀膜，产能达到6000片/小时或更高，且解决了绕镀及化学元素磷和硼在硅片正反面的交叉污染问题。