[实用新型]改善ICP腔体制程气体分布不均的结构及气体均匀组件

摘要

本实用新型涉及了改善ICP腔体制程气体分布不均的结构及气体均匀组件，包括上分流板、下分流板以及外壳，外壳为上端设置有开口的壳状结构，且外壳底部均匀开设有外壳通孔，上分流板以及下分流板均设置于外壳内，且上分流板设置于下分流板的上方；上分流板外缘均匀开设有上分流板通孔，所述上分流板上端设置有气流通道，所述气流通道设置有进气口与出气口，所述气流通道的进气口朝上设置，所述气流通道的出气口朝向上分流板通孔设置，用于均匀地向各分流板通孔输送气流；所述下分流板上环形阵列设置有下分流板通孔，所述下分流板通孔孔径自上分流板中心到边缘方向逐渐减小。该气体均匀组件能有效地将气流均匀分散开，从而提高晶圆生产质量。