[实用新型]大型磁控溅射镀膜机的真空室结构有效

专利信息
申请号: 201921758248.9 申请日: 2019-10-20
公开(公告)号: CN211199392U 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 刘国利;周毅;李国强 申请(专利权)人: 湖南玉丰真空科学技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 411100 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种大型磁控溅射镀膜机的真空室结构,包括真空室体,所述真空室体为横向放置的圆筒状结构,其两端开口,在两端开口处焊接有法兰Ⅰ,法兰Ⅰ外端面为密封面,所述真空室体置于固定支座上,在真空室体两端各设有一封头门,所述封头门固定在移动门架上,所述移动门架底部设有脚轮,脚轮置于道轨上,移动门架由电机驱动在道轨上平行移动,封头门的边缘焊接有与法兰Ⅰ对接的法兰Ⅱ。本实用新型的大型磁控溅射镀膜机的真空室结构,既能满足高真空密封的要求,又能满足取放工件的大开度要求,抗压均匀,稳定性好、使用方便。
搜索关键词: 大型 磁控溅射 镀膜 真空 结构
【主权项】:
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