[实用新型]一种水平式MOCVD系统有效

专利信息
申请号: 201921847517.9 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN211036099U 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 李世杰;米菁;郝雷;于庆河;杜淼;李帅 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/18;C23C16/458
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 黄家俊
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了金属有机物化学气相沉积薄膜技术领域的一种水平式MOCVD系统。包括依次布设的载气装置、反应源装置、反应室和真空系统;所述载气装置包括气瓶和流量计;反应源装置由并联布置的气化腔和截止阀组成,气化腔中放置盛放有机反应源的容器;反应室由密封端盖、管式炉和石英管组成,石英管内布设过滤网、整流工装和石墨样品台,管式炉包裹在石英管外壁,石英管两端用密封端盖密封,密封端盖中心设有进出气口,两侧分别连接反应源装置和真空系统;真空系统包括截止阀、真空计、尾气处理装置和真空泵。本实用新型结构简单,可实现管状样品内壁薄膜的批量化均匀制备,加料方便,通过对气化腔的简单切换能实现多体系复合薄膜的制备。
搜索关键词: 一种 水平 mocvd 系统
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