[实用新型]一种用于投影成像的透镜系统有效

专利信息
申请号: 201921867902.X 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN210573157U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 南基学 申请(专利权)人: 广东烨嘉光电科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 代理人: 蒋亚兵
地址: 523710 广东省东莞市塘*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型系提供一种用于投影成像的透镜系统,包括依次设置的投影源、投影透镜组和出光透镜,投影源靠近投影透镜组的一侧依次设有准直透镜和起偏器,起偏器与投影源之间连接有入光通道,出光透镜靠近投影透镜组的一侧设有检偏器,检偏器与出光透镜之间连接有出光通道。本实用新型在投影源与出光透镜之间设置有起偏器和检偏器,从投影源出射的光线经起偏器调节后再射入投影透镜组,光线需要经检偏器才能射向出光透镜,源自投影源的光线是经过偏振的,能够有效排除其他杂光的影响,且入光通道能够有效避免杂光应经过起偏器偏振,出光通道能够有效避免杂光直接射向出光透镜,提高最终形成投影图案的保真性。
搜索关键词: 一种 用于 投影 成像 透镜 系统
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