[实用新型]一种双室磁控溅射真空镀膜机有效
| 申请号： | 201921885786.4 | 申请日： | 2019-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN210886206U | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 吴炳照 | 申请（专利权）人： | 无锡福照玻璃镜业有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙) 32376 | 代理人： | 姬颖敏 |
| 地址： | 214000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，公开了一种双室磁控溅射真空镀膜机，包括镀膜机座，镀膜机座上横向设有磁控基板，磁控基板的前后侧均设有磁控溅射装置，磁控基板的前后侧均铰接有与其侧面磁控溅射装置可罩设密闭配合的镀膜机罩，且镀膜机罩水平翻转，镀膜机罩内侧水平设有载物基台，镀膜机座上设有将镀膜机罩与磁控基板之间封闭腔体抽真空的真空发生装置，镀膜机座上设有与真空发生装置、磁控溅射装置配合的调节控制箱。本实用新型解决了现有磁控溅射真空镀膜机适用范围小，加工效率低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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