[实用新型]一种聚焦环及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201921892371.X | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN210866114U | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 郝林坡 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/18 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种聚焦环及等离子体处理装置，属于半导体制造技术领域，聚焦环包括：环体，台阶部，环体于外圆的投影面方向被分成多个环部件；等离子体处理装置包括:基座，电极；上述技术方案的有益效果是：当顶针将晶圆放置于聚焦环上或者顶出聚焦环时，驱动装置驱动对应的聚焦环部件沿着晶圆所在平面、向远离晶圆的方向移动，晶圆不会因为倾斜等其他原因撞击到聚焦环；当晶圆被放置于聚焦环上进行等离子体处理时，驱动装置驱动对应的聚焦环部件沿着晶圆所在平面、向靠近晶圆的方向移动，不会降低聚焦环的聚焦功能，同时在靠近的过程中对晶圆的位置起到纠偏作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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