[实用新型]一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材有效
| 申请号： | 201921927976.8 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN210886207U | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 贺平;杨洋 | 申请（专利权）人： | 核工业理化工程研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 | 代理人： | 马倩 |
| 地址： | 300180 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材，包括管状主体，所述主体中间形成中心通孔，其管壁上形成两个增厚环，所述增厚环的厚度不小于主体的壁厚。本实用新型提供了一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材，增厚环的设计，延长刻穿的时间，使得整体靶材刻穿所用的时间大致相等，可以更好的利用靶材工作有效段区域的材料，延长靶材使用寿命，节约换靶时间，降低加工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 使用率 磁控溅射 柱状 | ||
【主权项】：
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