[实用新型]一种LED制造用光罩板有效
申请号: | 201921945111.4 | 申请日: | 2019-11-12 |
公开(公告)号: | CN210924182U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 李锦新 | 申请(专利权)人: | 李锦新 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L33/00 |
代理公司: | 北京艾皮专利代理有限公司 11777 | 代理人: | 杨克 |
地址: | 850000 西藏自治区拉萨*** | 国省代码: | 西藏;54 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种LED制造用光罩板,包括非晶圆曝光部,所述非晶圆曝光部的内侧开设有晶圆安装通槽,所述晶圆安装通槽的内侧连接有连接条,所述连接条的末端连接有晶圆曝光部,所述非晶圆曝光部的前侧设置有前侧荧光层,所述非晶圆曝光部的后侧设置有后标记层,所述前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,所述后标记层的外侧设置有后防震胶层,所述非晶圆曝光部的内侧开设有矩形取物槽,实用新型前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,可通过矩形取物槽拿取,解决了使用LED制造用光罩板时,由于LED制造用光罩板表面光滑难以便于光罩板叠加运输,同时难以保证光罩板便于取用,影响了LED制造用光罩板的使用效果的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 制造 用光 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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