[实用新型]一种掩膜板框架及掩膜板卡组件有效
申请号: | 201921947917.7 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN211403117U | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 魏盘生 | 申请(专利权)人: | 上海灏谷集成电路技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人: | 童强 |
地址: | 200000 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种掩膜板框架及掩膜板卡组件,属于显示技术领域,包括框架本体和掩膜板,所述掩膜板上设置有图形区域,所述框架本体中部开设有凹槽,所述凹槽内设置有等间隔分布的若干隔条,所述隔条将凹槽分隔成若干与掩膜板对应的开口,所述隔条侧面以及框架本体内侧安装有用于承载掩膜板的挡条。本实用新型实施例中,在制备有机发光二极管显示装置时,通过将掩膜板嵌入框架本体上部的开口内,并通过挡条对掩膜板进行承托,具有良好的定位效果,同时在使用完毕后还可将掩膜板及时取出,以便对其进行维护和更换;通过压紧件的设置还可将掩膜板压紧在对应开口内部,能够有效的放置掩膜板受热时发生移位,影响制备质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 框架 板卡 组件 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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