[实用新型]一种单轴抛光机构有效
| 申请号： | 201921983430.4 | 申请日： | 2019-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN211220040U | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 文中江;钟波;陈贤华;张清华;王健;许乔 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B45/00;B24B41/04 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 余菲 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种单轴抛光机构，属于光学制造技术领域，包括刀柄和研抛组件，研抛组件与刀柄滑动连接，研抛组件能够沿刀柄的轴心线相对于刀柄滑动。本实用新型提供的单轴抛光机构结构简单，利用注气套将压缩气体注入刀柄上的滑槽后，可以带动研抛工具相对于刀柄移动，当研抛组件移动到合适的位置后，保持注气套内的压力稳定，可以对研抛组件的位置进行固定，固定后可以轻易得到具有利于面形修正的近高斯去除函数和利于匀滑的去除函数，从而使其去除效果与以往双旋转研抛工具一致，且研抛组件可以保证抛光刀具在运行过程中的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 机构 | ||
【主权项】：
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