[实用新型]一种硅片抛光垫清洗装置有效

专利信息
申请号: 201922000782.X 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN211681596U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 祝斌;王彦君;武卫;刘建伟;刘园;刘姣龙;裴坤羽;孙晨光;由佰玲;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;吕莹;徐荣清 申请(专利权)人: 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017
代理公司: 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 代理人: 栾志超
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供一种硅片抛光垫清洗装置,包括用于储存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上抛光垫和下抛光垫的刷子以及用于控制所述刷子移动的机械臂;所述刷子上端面与所述上抛光垫接触,所述刷子下端面与所述下抛光垫接触;所述第一水槽通过第一水管与所述第二水槽连通,所述第二水槽通过所述第二水管与所述刷子连通;设置在所述刷子上下端部的喷嘴均与所述机械臂轴线成一定角度。本实用新型还提出一种硅片抛光垫清洗方法。本实用新型提出的清洗装置,可完全去除抛光垫表面附着的SiO2胶体颗粒、抛光药液和硅粉,自动化程度高,清洗效果好且效率高。
搜索关键词: 一种 硅片 抛光 清洗 装置
【主权项】:
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