[实用新型]蒸发源机构以及溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 201922098942.9 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN211199385U | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 徐旻生;庄炳河;王应斌;龚文志;张亮;李永杰 | 申请（专利权）人： | 爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 周伟锋 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源机构以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源机构包括蒸发源装置、药液滴灌装置和同步加药装置，蒸发源装置至少设有两个，包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于蒸发腔内的坩埚，蒸发箱包于其侧壁开设与蒸发腔连通且与真空镀膜室对接的出料口，以及于其上壁开设与蒸发腔连通的加药口，药液滴灌装置至少设有两个，包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构，其中，各出药口分别用于将药液引落至一存药腔，同步加药装置用于一并驱动各出药口上下运动，以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔。各蒸发源装置能够同时完成加药作业，极大地提高了加药作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 机构 以及 溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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