[实用新型]一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板有效
申请号: | 201922143617.X | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN211256072U | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 鲁聪达;俞越翎;马毅;黄先伟;宋宇轩;张泰华 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 俞昊文 |
地址: | 310000 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板,包括左挡板、右挡板、驱动组件及联动组件,所述左挡板用于转动遮挡第一溅射靶,所述右挡板用于转动遮挡第二溅射靶,所述驱动组件连接有两个联动组件,所述左挡板、右挡板分别固定于两个联动组件的端部,两个联动组件通过固定组件分别与第一溅射靶及第二溅射靶连接,所述驱动组件带动联动机构转动使左挡板和右挡板交替转动,分别遮挡相对应的第一溅射靶或第二溅射靶。本实用新型通过一个主动齿轮以及两个从动小齿轮间的啮合关系实现在磁控溅射镀叠层膜时两个挡板的联动,不需要人工计时控制挡板,有更高的效率与稳定性,通过调节主动齿轮的高度,且工作方式不局限。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 反应 设备 叠层膜 镀膜 双靶材 联动 挡板 | ||
【主权项】:
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