[实用新型]掩模板有效
申请号: | 201922150725.X | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN210573180U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 郑启涛;许邹明;张雷;田健;张贵玉;刘纯建;吴信涛;陈彤 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开的实施例公开了一种掩模板。掩模板包括多个遮光条,多个遮光条布置成网格状。掩模板包括掩模板正常曝光区域;以及由掩模板的侧边缘构成的并且与掩模板正常曝光区域邻接的掩模板拼接曝光区域。在掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有分界线,多个遮光条包括位于掩模板拼接曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第一遮光条和位于掩模板正常曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第二遮光条,并且第一遮光条的宽度大于第二遮光条的宽度。采用根据本公开的实施例的掩模板,可以使基板拼接曝光区域的金属线的线宽与基板正常曝光区域的金属线的线宽更加一致。 | ||
搜索关键词: | 模板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备