[实用新型]用于合成吸收光谱聚对二甲苯封装和防护涂层制备装备有效
| 申请号： | 201922164422.3 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN212894546U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 吴宜勇;刘剑虹;高军虎 | 申请（专利权）人： | 南京若虹高新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D165/04 | 分类号： | C09D165/04;C09D5/32;H01L21/56;H01L23/29;C08G61/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于集成电路芯片、电子器件、电路板或功能材料封装的吸收光谱可调控的聚对二甲苯封装和防护涂层制备装备。该封装防护层沉积装备包括用于聚对二甲苯原料蒸发舱，两段式加热管式炉裂解段，若干用于可控光谱辅助原料蒸发裂解的辅助蒸发室，以及具有可控温度、压力和包含加入其它环境条件（紫外辐射、等离子体输入）输入的防护层沉积主舱等核心系统。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 合成 吸收光谱 二甲苯 封装 防护 涂层 制备 装备 | ||
【主权项】：
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