[实用新型]一种VAD沉积炉内压力自动控制系统有效

专利信息
申请号: 201922181527.X 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN211226915U 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 骆金卫;李锐;王侃 申请(专利权)人: 江苏奥维信亨通光学科技有限公司
主分类号: C03B37/014 分类号: C03B37/014;C03B37/018
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 215200 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种VAD沉积炉内压力自动控制系统,其包括反应炉、通过废气排出管连通所述反应炉内部的抽风装置、与所述反应炉连通的新风补风管、设置在所述新风补风管上的新风补风阀、与所述废气排出管连通的抽风补风管、设置在所述抽风补风管上的抽风补风阀、设置在所述反应炉内的压力传感器、以及PLC控制器,所述PLC控制器与所述新风补风阀、所述抽风补风阀以及所述压力传感器电气连接。本实用新型能过精准的、高效的对沉积炉内的压力进行控制,减少压力波动带来的不良影响,提高产品质量。
搜索关键词: 一种 vad 沉积 压力 自动控制系统
【主权项】:
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