[实用新型]一种浸没式光刻装置有效
| 申请号： | 201922243639.3 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN211086918U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 华平壤;姜城 | 申请（专利权）人： | 天津通软信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 蔡岩岩 |
| 地址： | 300000 天津市滨海新区经济技术*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种浸没式光刻装置，属于半导体制品领域。该浸没式光刻装置包括透镜、支撑组件、卡接组件和定位组件。所述卡接组件包括底座和滑杆，所述滑杆的一端固定有齿条，所述齿条与所述齿轮啮合，所述基板台中部开设有通槽，所述通槽侧壁开设有卡槽，所述滑杆的一端与所述卡槽卡接；通过设置的基板台便于底座的固定，通过设置的滑杆与卡槽卡接，通过旋转转轴带动齿条移动，使得齿条带动滑杆移动，使得滑杆的一端与卡槽插接，便于底座卡接固定，通过增设的吸盘，按压橡胶气囊，使得吸盘端部产生负压，便于吸附晶片，对晶片进行吸附定位，使得加工过程中晶片稳固，便于晶片的取放，操作方便快捷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 光刻 装置 | ||
【主权项】：
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