[实用新型]用于刻蚀机台的电极有效
| 申请号： | 201922249595.5 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN211719556U | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 豆海清;郑亮;刘青松;邵克坚;任连娟 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳;高翠花 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种用于刻蚀机台的电极，其包括内电极，所述内电极的下表面具有凸起部，所述凸起部朝向远离所述内电极的方向凸起。本实用新型的优点在于，提高刻蚀目标物上方的等离子体密度的均匀性，避免由于等离子体密度不均匀而造成的栅线及沟道关键尺寸发生变化，提高良率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 刻蚀 机台 电极 | ||
【主权项】：
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