[实用新型]半导体设备反应腔室的清理设备有效
| 申请号： | 201922351868.7 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN211990114U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 王迪杏;蒋伟;王宁;张阳;秦文兵;王金裕;苗全;盛路阳;王伟;顾育琪 | 申请（专利权）人： | 无锡迪渊特科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/093 | 分类号： | B08B9/093;B08B9/087;H01L21/67 |
| 代理公司： | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人： | 谷金颖 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了半导体设备反应腔室的清理设备，包括腔室本体，所述腔室本体内部的顶部固定有支撑柱，所述支撑柱的顶部固定有工作台，所述腔室本体的侧面贯穿有通风管，所述通风管的内部设置有抽风机，所述腔室本体的顶部设置有盖板，所述盖板和腔室本体之间通过螺栓锁死，所述盖板上贯穿有壳体，所述壳体的内部固定有安装架，所述安装架上通过轴承转动连接有转轴。本实用新型所达到的有益效果是：通过设置桨叶、转轴和喷头，对通入装置内的清洁气体进行多角度冲洗，对装置内部的冲洗效果好；通过设置电机、齿轮、支架和刮板，将腔室本体的内侧壁上的污染物刮动，使之与清洁气体充分反应，提高清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 反应 清理 设备 | ||
【主权项】：
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