[实用新型]一种半导体设备的器件清洗装置有效

专利信息
申请号: 201922362838.6 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN212069670U 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 韩猛;马国乾 申请(专利权)人: 武汉越源环保科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 湖北天领艾匹律师事务所 42252 代理人: 罗浩
地址: 430000 湖北省武汉市江岸*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种半导体设备的器件清洗装置;属于设备清洗技术领域;其技术要点包括一种半导体设备的器件清洗装置,包括底座和清洗罩,底座的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆,第一螺纹杆的另一端延伸至底座的外部并固定连接有第二皮带轮,第一螺纹杆上螺纹连接有螺纹套,螺纹套的上表壁固定连接有固定杆,本实用新型螺纹套通过固定杆带动U型支撑座实现了水平移动,将夹持装置移动至清洗罩的左侧,使超声波发射器对晶片进行清洗,从而实现二次清洗,能够有效的的对半导体设备的器件进行清洗,第二夹板可以水平移动,可以适用于不同大小的晶片。
搜索关键词: 一种 半导体设备 器件 清洗 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉越源环保科技有限公司,未经武汉越源环保科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201922362838.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top