[实用新型]一种表面微波等离子体镀膜装置有效
申请号: | 201922387644.1 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN211199400U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 王海侠;朱雨 | 申请(专利权)人: | 欧钛鑫光电科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/455;B82Y40/00 |
代理公司: | 苏州睿昊知识产权代理事务所(普通合伙) 32277 | 代理人: | 马小慧 |
地址: | 215100 江苏省苏州市相城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种表面微波等离子体镀膜装置,包括依次连通的等离子发生室、混合室和沉积室;等离子体发生室为一方形腔体,其中设有2‑18根平行设置的石英玻璃管,石英玻璃管的两端面各设有一连接口;等离子体发生室的两侧各设一微波发生装置,每个微波发生装置均通过一微波功率调节器连接多个同轴波导,同轴波导的数量与石英玻璃管的数量相等且一一连接于石英玻璃管的连接口上;等离子发生室的顶面上连接有工作气体进口。本实用新型的表面微波等离子体镀膜装置,该镀膜装置能够实现大面积的纳米薄膜,提高了生产效率,并且镀膜的均匀性好。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 微波 等离子体 镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的