[实用新型]涂胶显影机清洗系统有效
| 申请号： | 201922400051.4 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN211488799U | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 安礼余 | 申请（专利权）人： | 宇弘研精密机械（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了涂胶显影机清洗系统，包括调节结构、箱体、工作台和过滤结构，所述工作台的顶端固定连接有箱体，且箱体的内部设置有水箱，所述水箱的顶端固定连接有管体，且管体的外侧壁上设置有水泵，所述管体的外侧壁上设置有调节结构。本实用新型通过在工作台的底端安装有过滤结构，使用时废水从水槽内排入滤箱内部，由滤箱内设置的滤芯对进行过滤净化，滤芯内部设置的活性炭滤层和椰壳颗粒层可对废水中的有毒有害物质和异味进行祛除吸附，再经过粗网层和细网层对其进行进一步的过滤排除，使废水有效净化过滤，可重复再利用，通过过滤结构的设置使装置内废水的过滤净化效果更好，废水排放达标。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶 显影 清洗 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇弘研精密机械（苏州）有限公司，未经宇弘研精密机械（苏州）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201922400051.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种机床加工用喷嘴定位调节机构
- 下一篇：一种金属法兰盘的加工用模具
