[发明专利]用于设计虚设图案的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201980000225.8 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109891414B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 李碧峰 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 林锦辉
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 提供了用于设计用于改善晶片的表面平坦性的虚设图案的系统和方法。示范性系统包含:至少一个处理器;以及储存指令的至少一个存储器。所述指令在由所述至少一个处理器运行时,使得所述至少一个处理器执行操作。所述操作包含:识别对应于所述晶片的功能区的特征图案。所述操作还包含:基于与所述特征图案相关联的脚本来确定所述特征图案的性质。所述操作还包含:基于所述特征图案的所述性质来确定虚设图案规则。此外,所述操作包含:通过基于所述虚设图案规则在围绕所述特征图案的相邻区域中缠绕填充虚设单元,来生成对应于所述晶片的空白区的虚设图案。
搜索关键词: 用于 设计 虚设 图案 系统 方法
【主权项】:
1.一种用于设计用于改善晶片的表面平坦性的虚设图案版图的系统,包括:至少一个处理器;以及储存指令的至少一个存储器,所述指令在由所述至少一个处理器运行时,使得所述至少一个处理器执行包括如下步骤的操作:识别对应于所述晶片的功能区的特征图案;基于与所述特征图案相关联的脚本来确定所述特征图案的性质;基于所述特征图案的所述性质来确定虚设图案规则;以及通过基于所述虚设图案规则在围绕所述特征图案的相邻区域中缠绕填充虚设单元,来生成对应于所述晶片的空白区的虚设图案。
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