[发明专利]真空蒸镀装置用蒸镀源在审
| 申请号： | 201980004684.3 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN111108230A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 中村寿充;清健介 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红;秦岩 |
| 地址： | 日本神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在蒸镀升华性材料时，可增加每单位时间的升华量，对被蒸镀物的蒸镀率高。本发明的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS)，其是配置在真空室(1)内，用于使升华性有机材料(7)升华并对被蒸镀物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸镀源，其具有：上表面开口(4)，其具有朝向被蒸镀物(Sw)喷出升华的材料的坩埚(41)；筒状体(5)，其与该上表面开口(4)的壁面留出间隔地插入上表面开口(4)中并收纳升华性材料；以及加热单元(Ht)，其可加热筒状体(5)内的材料；筒状体(5)上开设有容许升华的材料连通的多个网眼(52)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 用蒸镀源 | ||
【主权项】：
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