[发明专利]一种用于制作光电半导体芯片的方法及其所使用的键合晶圆在审

专利信息
申请号: 201980004714.0 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN111183513A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 谢斌晖;陈铭欣;萧尊贺;郑贤良;宋志棠;刘卫丽 申请(专利权)人: 福建晶安光电有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L33/00;H01L33/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362411 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种用于制作光电半导体芯片的方法及其所使用的键合晶圆,晶圆材料包括蓝宝石、碳化硅、砷化镓等用于外延(epitaxy)的晶圆。此方法将传统晶圆分成母晶圆、子晶圆,运用适当的键合技术将母晶圆与子晶圆键合后,能耐外延时约1000度的高温与应力产生的翘曲变化;外延后使用非物理破坏方式解开键合。母晶圆可以循环使用,子晶圆与外延层直接用于芯片制程,不需要减薄或少量减薄,解决了大尺寸外延晶圆的原材料与芯片加工成本问题,并得到波长均匀性更好的外延片。
搜索关键词: 一种 用于 制作 光电 半导体 芯片 方法 及其 使用 键合晶圆
【主权项】:
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