[发明专利]半导体材料及半导体装置在审

专利信息
申请号: 201980008397.X 申请日: 2019-01-17
公开(公告)号: CN111742408A 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 国武宽司;长塚修平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;G02F1/1368;H01L21/336;H01L21/822;H01L21/8234;H01L21/8242;H01L27/04;H01L27/088;H01L27/108;H01L27/1156;H01L29/786;H01L27/32;H01L29/788
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种抑制导致特性变动、元件劣化或绝缘破坏的带电现象的半导体装置。该半导体装置包括:衬底上的第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管及第四晶体管,其中,第四晶体管包括第一导电体、第二导电体、第三导电体及氧化物半导体,第一导电体通过第一晶体管与半导体衬底电连接,第二导电体通过第一晶体管与半导体衬底电连接,第三导电体通过第一晶体管与半导体衬底电连接,并且,第四导电体通过第一晶体管与半导体衬底电连接。
搜索关键词: 半导体材料 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980008397.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top