[发明专利]化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法

摘要

一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，A为包含杂原子的基团，R1为任选具有取代基的碳数1～30的2n价的基团，R2～R5各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数2～30的炔基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、巯基或羟基，前述烷基、前述芳基、前述烯基、前述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键，R4中的至少1个和/或R5中的至少1个为羟基和/或巯基，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)#imgabs0#