[发明专利]在后处理中具有优异操作特性的电解铜箔，及其制造方法有效
| 申请号： | 201980010624.2 | 申请日： | 2019-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN111655906B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 金星玟;金善花 | 申请（专利权）人： | SK纳力世有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04;C25D3/38;H01M4/66;H01M4/13;H01M10/052 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 吴小瑛;张福根 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及在铜箔制造中以及在制造二次电池的后处理中具有优异的处理特性的电解铜箔。本发明提供了具有第一表面和第二表面的电解铜箔，其中电解铜箔的(220)面的织构系数为0.4‑1.32，电解铜箔的第一表面的Rz/Ra与第二表面的Rz/Ra之间的差(|Δ(Rz/Ra)|)为小于2.42，并且电解铜箔的第一表面与第二表面的峰密度(PD)之间的差(|ΔPD|)为96ea或更小。 | ||
| 搜索关键词： | 在后 处理 具有 优异 操作 特性 电解 铜箔 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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