[发明专利]波长追踪系统、校准波长追踪系统的方法、光刻设备、确定可运动对象的绝对位置的方法、以及干涉仪系统在审
| 申请号： | 201980011304.9 | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN111670335A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | E·A·F·范德帕斯奇;M·J·詹森;S·J·A·G·科西晋斯;K·G·O·范德米拉科夫;I·威德斯洛文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G03F7/20;G01J9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种包括波长追踪单元和干涉仪系统的波长追踪系统。波长追踪单元具有位于固定位置处的反射表面且提供具有第一路径长度的第一反射路径和具有第二路径长度的第二反射路径。第一路径长度实质上大于第二路径长度。干涉仪系统包括：分束器，用以将光束拆分成第一测量束和第二测量束；至少一个光学元件，用以至少部分地沿第一反射路径第一测量束、和至少部分地沿第二反射路径引导第二测量束；第一光传感器，布置在第一反射路径的端部处，以接收第一测量束并基于第一测量束来提供第一传感器信号；第二光传感器，布置在第二反射路径的端部处，以接收第二测量束并基于第二测量束来提供第二传感器信号；及处理单元，用以基于第一传感器信号和第二传感器信号来确定波长或波长的改变。 | ||
| 搜索关键词： | 波长 追踪 系统 校准 方法 光刻 设备 确定 运动 对象 绝对 位置 以及 干涉仪 | ||
【主权项】：
暂无信息
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