[发明专利]X射线拍摄装置和断层合成图像的合成方法在审
| 申请号： | 201980011378.2 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN111683601A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 监物秀宪;桝谷均 | 申请（专利权）人： | 纳欧克斯影像有限责任公司;纳欧克斯影像股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02;H05G1/52 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔成哲;黄纶伟 |
| 地址： | 英国直*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供X射线拍摄装置和断层合成图像的合成方法，能够提高能够采用分散X射线源的可能性。本发明的X射线拍摄装置具有多个分散X射线源(G1～G3)，该多个分散X射线源(G1～G3)分别具有以固定的间距(PI1)配置的多个X射线管(3)，分散X射线源(G1～G3)隔开空间(SP)而配置，隔着空间(SP)而相邻的两个X射线管(3)之间的距离(PI2)比间距(PI1)大。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 拍摄 装置 断层 合成 图像 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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